本公司借助于高校和科研机构的强大研究实力，共同开发了LD 、LDMC系列辉光离子氮化炉和离子氮－碳共渗炉、离子渗碳炉和离子碳－氮共渗炉、离子渗硫和离子硫－氮共渗炉、多功能等离子化学热处理炉和等离子渗金属炉等多种高新等离子热处理设备。并在材料表面处理成套工艺及设备研发、生产和相关知识的培训推广等一系列实际生产中进行了具有创新性、新颖性、实用性的工作。目前已经获得的国家专利有：空心阴极制备钼氧化物纳米材料，专利号： ZL02110183.3；金属与非金属元素的等离子共渗，专利号：ZL01141329.8；射频-直流多层辉光离子渗镀设备及工艺 ，专利号：ZL02110182.5；辉光离子渗碳技术及设备 ，专利号：ZL02110184.1；双阴极-高频加强辉光放电离子渗镀工艺及设备，专利号：ZL01108400.6等五项，申请待批的国家专利四项，是国内本行业拥有自主知识产权最多的公司。
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